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Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

v18.4.1

大小:656.85 MB 更新:2023/03/18

类别:机械电子系统:WinXP, Win7, Win8, Win10, WinAll

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  Zemax OpticStudio是一款功能完善的综合性光学设计软件,内置先进的设计技术,包括成像光学,所以它是科学家和工程师设计成像光学器件和机械包装的首选工具,这些器件包括用于火星探测器的望远镜,照相机和传感器以及用于神经成像的双光子显微镜;提供激光器和纤维技术,激光器和光纤技术跨越广阔的应用范围,从普通家用产品,以激光导引系统,荧光成像,光纤传感器,和激光材料加工;支持照明设计,可以从真实光源产生均匀或平滑变化的照明图案对于光学系统设计至关重要,由于照明源趋于不均匀,因此这种类型的照明和照明设计很复杂,但是通过此工具能够将其设计过程进行简化;通过简化的工程流程将光学系统更快,更经济地推向市场,可制造性是团队的努力,为了有效地生产突破性的光学设计,工程师需要能够以一种保护设计完整性并避免不必要的返工和成本的方式一起工作;需要的用户可以下载体验

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

新版功能

  显微镜、望远镜、目镜等镜头设计等;

  相机镜头、各种变焦镜头、手机摄像头、夜视系统设计等;

  各种LED二次配光透镜,色度分析及颜色混合优化等;

  车灯、LCD 背光板和LED等照明系统设计优化;

  光管、光纤连接器,有源及无源器件、光纤耦合;

  DVD、VCD 激光读写头、干涉仪、全息光学;

  LCOS、DLP等各种投影仪及光学引擎设计;

  物理光学BPM计算,偏振光学;

  激光光学系统,激光打标机及元件设计,系统分析;

  激光扩束镜头、F-theta扫描镜头设计优化,整形镜头设计;

软件特色

  几何光学设计:成像镜头设计、成像质量分析、温度环境分析、加工公差分析等

  物理光学设计:激光系统及元件的设计及分析,光学相干衍射特性分析、光纤耦合等

  照明系统设计:照明系统的设计,光机设计,和3D模型软件动态链接,光源库等

  ZPL语言扩展:自带的编程语言可以实现功能的扩展

  扩展功能:可以和c语言、C++、VB等编程语言进行配合使用

安装步骤

  1、用户可以点击本网站提供的下载路径下载得到对应的程序安装包

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  2、只需要使用解压功能将压缩包打开,双击主程序即可进行安装,弹出程序安装界面

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  3、同意上述协议条款,然后继续安装应用程序,点击同意按钮即可

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  4、可以根据自己的需要点击浏览按钮将应用程序的安装路径进行更改

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  5、弹出以下界面,用户可以直接使用鼠标点击下一步按钮

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  6、桌面快捷键的创建可以根据用户的需要进行创建,也可以不创建

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  7、现在准备安装主程序,点击安装按钮开始安装

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  8、弹出应用程序安装进度条加载界面,只需要等待加载完成即可

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  9、根据提示点击安装,弹出程序安装完成界面,点击完成按钮即可

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

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方法

  1、程序安装完成后,先不要运行程序,打开安装包,然后将文件夹内的文件复制到粘贴板

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  2、然后打开程序安装路径,把复制的文件粘贴到对应的程序文件夹中替换源文件

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  3、完成以上操作步骤后,就可以双击应用程序将其打开,此时您就可以得到对应程序

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

使用说明

  系统资源管理器

  系统资源管理器显示了通常在设计项目开始时输入的基本系统设置。 通常,这些设置不是经过优化的,但是可以根据需要进行。

  可以根据需要扩展,关闭和重新组织System Explorer中的组,并且可以随时使用右上角的控件隐藏或扩展整个System Explorer:

  文件标签

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  “文件”选项卡包含所有文件输入/输出功能,分为以下几组:

  Lens File组包含所有正常的Windows文件管理任务,例如文件打开,保存等。OpticStudio文件以.ZMX格式文件存储,以及包含配置设置的关联.CFG文件和包含设置的.SES或.ZDA文件保存文件时打开的所有窗口的数据。 .ZDA文件除设置信息外还包含保存的分析数据。 .SES文件扩展名在Zemax和OpticStudio的旧版本中使用,但与当前版本兼容。

  存档组可让您创建并打开OpticStudio存档文件。这些文件以.ZAR格式存储,并包含在装有OpticStudio的另一台计算机上打开文件所需的所有文件。镜头设计所使用的所有OpticStudio数据,玻璃目录,涂料,CAD文件,SolidWorks™等文件都压缩到该单个文件中,以便您可以在设计过程中轻松进行设计备份,或转移设计文件。设计到另一台机器。

  导出组提供对OpticStudio中所有导出功能的访问,包括导出到STEP,IGES,SAT和STL格式的CAD文件,以及导出到DXF和IGES线图。

  Zemax黑匣子功能使您可以加密镜头数据电子表格中的一系列表面,可以将这些表面提供给其他OpticStudio用户,而无需透露设计本身的细节。这样一来,您就可以将完全可追踪光线的文件提供给客户或需要了解的其他同事,这些文件可以在光线追踪上给出准确的结果,但不会泄露设计规定。

  加密涂层功能与薄膜涂层具有相似的功能,并允许以加密格式导出薄膜涂层的完整处方,从而可以精确地追踪光线,而无需使设计本身可用。

  通过“转换”组,您可以在OpticStudio顺序模式和非顺序模式之间进行转换,还可以在原始格式与OpticStudio之间转换各种文件格式(例如.MATMatlab®,.INT干涉仪数据和.f3d OptiWave数据)。

  设置标签

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  当您启动每个设计项目时,将使用此选项卡,并且在初始设置后很少访问或根本不访问此选项卡。

  系统组将与基本系统设置有关的所有内容都放在一个位置。使用“项目首选项”可以自定义OpticStudio安装,文件夹位置,快速访问工具栏等,并将这些设置保存到项目配置文件中。

  模式组指定您是在顺序模式还是非顺序模式下工作。

  编辑组可访问电子表格,这些电子表格用于在逐个面(顺序模式)或逐个对象(非顺序模式)的基础上定义光学系统。

  通过“系统查看器”组,可以访问用于查看光学系统本身的布局图。

  诊断程序可让您检查OpticStudio文件。系统检查实用程序会捕获许多常见的安装错误。

  Windows控件定义了OpticStudio工作区中的窗口的行为。 Windows可以停靠,自由浮动,平铺或层叠。 Windows也可以在此处锁定或解锁。

  如果设计具有多个版本,则使用配置,这通常是变焦镜头,在一定温度范围内对镜头进行热分析,扫描镜头和具有移动部件的镜头的典型情况。如果定义了多个配置,则“配置”组将显示在所有选项卡上。

  分析标签

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  通过此标签,您可以在顺序模式下访问OpticStudio的所有分析功能。几乎所有成像系统设计都是在此模式下完成的。分析功能可提供各种要求下的详细性能数据。分析功能永远不会更改基础设计,但会提供有关设计的诊断信息,用于指导任何必需的更改。

  使用“系统查看器”选项卡可以访问用于查看光学系统本身的布局图。

  通过“图像质量”选项卡,可以访问在成像和聚焦系统设计中使用的所有分析,包括光线跟踪数据,像差数据,波前,点扩展函数等。

  激光和光纤可以访问特定于激光系统的功能,例如简单的高斯光束分析,物理光学和光纤耦合计算。

  极化和表面物理学计算单个表面上的薄膜涂层的性能,整体系统性能与极化的关系以及表面下陷,相位和曲率的曲线图。

  报告提供了基于文本的分析以用于演示目的。

  通用图允许您根据需要创建自己的分析功能。

  应用程序显示特定于应用程序的分析功能,如生物眼系统分析,自由形式和渐进镜片分析,还可以访问OpticStudio的全部非顺序功能。

  如果镜头使用多种配置,还将显示“配置”组

  分析标签(非连续模式)

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  此标签可让您以非顺序模式访问OpticStudio的分析功能,该模式用于大多数照明,照明,杂散光设计等。分析功能可提供各种要求下的详细性能数据。分析功能永远不会更改基础设计,但会提供有关设计的诊断信息,用于指导任何必需的更改。

  通过“系统查看器”组,可以访问用于查看光学系统本身的布局图。

  跟踪射线可以使用综合的非顺序射线跟踪引擎或称为LightningTrace™的更快的近似方法来启动射线跟踪,如果可以将源近似为点源,则该方法非常有用。

  “检测器和分析”和“射线追踪分析”组提供了分析先前射线追踪的功能。

  偏振计算对象各个面上的薄膜涂层的性能。

  通用图允许您根据需要创建自己的分析功能。

  应用程序显示特定于应用程序的分析功能,例如道路照明分析

  优化标签

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  在此选项卡中,您可以控制OpticStudio优化功能。

  手动调整包含一系列功能,可让您手动调整设计以获得所需的性能。该组仅在顺序模式下可用。

  通过自动优化,您可以访问功绩函数编辑器,这是在OpticStudio中定义系统性能规格的方式。通过“优化向导”,您可以根据最常见的要求(包括最小的光斑,最佳的波前误差和最小的角度偏差)快速生成一项功绩函数,然后可以对其进行编辑以符合您的确切要求。

  全局优化在两种主要情况下使用:在设计过程开始时(全局)以生成用于进一步分析的设计表单,以及在初始优化后(汉默)彻底地改善当前设计。

  优化工具执行一系列后优化功能,例如在用于目录光学的当前设计中找到最佳的表面以进行球面化或更换。该组仅在顺序模式下可用

  公差标签

Zemax OpticStudio(综合性光学设计软件)

  公差允许您查看有限的制造和装配公差对设计的影响。

  在“公差”组中,您可以在“公差数据编辑器”中输入要在每个参数上放置的公差。 公差向导将快速设置一组公差,然后可以对其进行编辑。

  制造图纸和数据组(仅顺序模式)以ISO 10110格式和Zemax特定格式创建制造图纸,并导出有关表面的数据以交叉检查制造设置。

  自由曲面制造数据组提供可用于制造公差的表面信息。

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